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新闻速递
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中国EDA市场发展潜力巨大
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在中国市场上,既有跨国公司,也有本土公司和新兴企业,他们都对EDA工具有很大的需求潜力。随着欧洲、日本和美国投下巨资到中国系统制造、晶圆加工和电子设计业,许多在中国投资的全球性大公司都需要为它的中国分支机构部署EDA产品,就像他们在...
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纳米工艺需要满足100DPPM的缺陷率吗？
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IC设计界开始质疑缺陷率小于100个器件/百万产品的目标。 考虑到与严格测试基准有关的困难和成本,工程师们怀疑,100个缺陷器件/百万产品(DPPM)的指标对于100nm及以下的设计是否太严格了。事实上,在最近举行的国际测试研讨会上,与会者认为10...
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新的业务模式正在孵化之中
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2005年,半导体产业将继续拥有很多激动人心的发展机遇,尤其是在亚洲地区。消费电子和无线产品市场的推动力将来自更低的成本和功耗,而北美市场的推动力将来自高性能。不同的行业带来的发展机会也有很大的差异。随着主流半导体工艺技术从0.2...
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Saifun开发出2Mb串行EEPROM,声称密度大幅领先对手
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以色列Saifun Semiconductor公司日前开发出一款采用SO-8封装的2Mb串行EEPROM存储器。该公司声称,这是业界首例基于其每存储单元2位的专利技术产品,比竞争对手的EEPROM技术密度高出4倍。Saifun表示,其2Mb串行EEPROM适用于消费电子、计算机和...
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“科技结合人性”成为消费电子产品的主要发展趋势
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一向强调技术推陈出新的消费电子产品,未来将转为强调结合人性,更贴近消费者与更易于使用的方向发展。台湾地区的拓??产业研究所指出,液晶电视(LCD TV)、等离子电视(PDP TV)、个人视频录像机(PVR)与MP3播放器等数字影音整合产品将主导2005年...
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HD-DVD赢得好莱坞电影公司的青睐
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三家主要的电影公司表示,它们将发行采用高清晰度DVD(HD-DVD)格式的电影光碟,从而与消费电子巨头兼不断上升的好莱坞新势力-索尼公司形成对立,因为索尼支持竞争的Blu-ray光盘格式。
某些HD-DVD的倡导者相信,该举动意味着下一代光盘格式的霸...
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车用FPGA在赛车引擎控制单元中的应用
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基于MCU、定制ASIC和体积庞大的电线束来实现引擎及控制电子的系统方案已发展至接近其技术和应用极限,汽车工业正面临新的设计挑战,本文介绍FPGA在赛车引擎控制单元中的应用,帮助设计人员缓解产品更快推出市场的压力、减少元件数目、在单一...
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以永不懈怠的精神打造中国的“贝尔实验室”
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美国发明家贝尔和《钢铁是怎样炼成的》中的保尔.柯察金是家喻户晓的人物,本文要介绍的主人公---吕京建,就是这样一个以保尔的精神为动力,以打造中国的贝尔实验室为人生目标,17年如一日致力于中国单片机公共实验室(Beijing Open Lab, BOL)发...
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利用高集成度时钟系统芯片代替传统分离时钟设计
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本文在讨论传统时钟设计面临的难点的基础上,引入了一种数模混合的高集成度的时钟系统芯片-Lattice ispClock Manager 5500系列。通过该芯片可以完成时钟的小数分频、倍频、移相、输入与输出多I/O标准的匹配与驱动、输出偏斜的灵活调整、时...
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为索尼提供技术授权,全美达向IP授权业务转型加速
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全美达日前宣布签署了第三个LongRun2授权协议,显示该公司确认今后仅作为一家无晶圆厂芯片公司存在,将停止销售处理器业务,转向知识产权(IP)商业模式。 全美达的LongRun2技术能调整晶体管的阈值电压,随着运行时间条件如电压和温度的变化可控...
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广晟开发出双模射频收发芯片,将与大唐基带芯片配套
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广晟微电子日前宣布成功研制出中国大陆首款符合SCDMA标准的SCDMA/GSM双模射频收发芯片。这款芯片工作于SCDMA 1.8GHz和GSM 900MHz标准频段,目标应用是中国大陆的SCDMA无线手机终端,现已开始提供样片。 这款芯片基于IBM的0.18微米硅锗(SiGe...
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侵权诉讼大棒缘何频频挥向中国半导体明星企业？
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张国斌
网站主编
电子工程专辑/国际电子商情
2004年岁末2005年年初,两家中国新兴的半导体明星企业---南方汇通世华微硬盘科技有限公司(GS Magicstor)和珠海炬力集成电路设计有限公司先后遭遇海外诉讼。南方汇通世华微硬盘被日立起诉...
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欧洲启动数字系统芯片功率泄漏控制项目
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来自欧洲7个国家的14家高等学府和科研院所组成的研发联盟日前启动一个旨在通过解决65nm节点以下CMOS制造工艺中的功率泄漏问题来改进下一代系统芯片设计的开发项目。根据IST第六框架计划的“纳电子”战略目标,欧洲委员会为这个名为CLEAN (...
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泰克在华举办测量技术研讨会,帮助提升产品研发效率
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泰克公司(Tektronx)日前宣布于2004年12月至2005年4月期间在中国举行的04-05示波器新产品发布暨测量技术系列研讨会第一阶段的活动已经结束。该活动的第二阶段系列研讨会将在3月份至4月份继续在各大城市继续进行。 此次在华东、华北、东北、...
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无掩膜光刻技术前景可观,但近期仍不会跻身主流
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无掩膜光刻(Maskless lithography)是降低光掩膜不断成本飞升问题的一个潜在解决方案。但日前参加由International Sematech举办的一个会议的技术专家指出,现有的(无掩膜光刻)工具技术问世不久,总体产出率仍然低下。 此次会议旨在识别并评估...
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京公网安备 11011202001138号
