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机器视觉

Basler携10大专业视觉方案亮相2026上海机器视觉展

  2026年03月31日  

近日,备受瞩目的2026上海机器视觉展(VisionChina)圆满落幕。作为全球领先的机器视觉解决方案提供商,Basler针对当下复杂的工业应用痛点,携10套精锐视觉方案亮相。本次展出的方案覆盖了从全新性能系统、特殊光谱成像到系统级控制等专业领域,通过技术创新,持续为精密制造赋能。展会期间,Basler展台凭借过硬的技术实力与丰富的视觉方案矩阵,吸引了众多行业专家与专业客户驻足交流。

Basler计算机视觉为帮助客户更精准地应对不同场景的挑战,Basler本次展出的10大方案在以下六大核心方向上实现了精细化升级:

年度重磅新品:16K TDI性能系统

作为本年度备受瞩目的重磅新品,16K TDI性能系统为应对产线不断攀升的速度挑战而生。全新16K TDI相机可以达到500KHz的超高行频,依托TDI技术 (256阶) 兼顾了超高速运行与高品质图像输出。基于面向未来的CXP 3.0标准稳定提供100Gbps目标带宽,保证16K@500kHZ海量数据实现长距离、低延迟的可靠传输。该系统可广泛服务于Wafer AOI、FPD、锂电、印刷及薄膜检测等目标市场,为高要求的线扫检测应用树立了全新的性能标杆。

攻克复杂表面缺陷:多角度打光与成像的效率革新

面对极具挑战的表面微小缺陷检测,Basler带来了2.5D光度立体方案与分时频闪线扫方案。

2.5D光度立体方案主要解决高反光表面微小特征的精细检测问题。无需自行合成图像,采集卡可直接输出X,Y方向的梯度图、平均曲度图、无阴影亮度图四种图片,有效释放CPU负载。该方案可广泛应用于锂电池外壳、PCBA及半导体芯片的表面缺陷检测。

同场展出的分时频闪线扫方案采用racer 2系列高感光线阵相机与双CXP-12接口,支持四线独立曝光。该方案通过VisualApplets实现图像数据的在卡实时拆分与多光场图像独立输出,在锂电极片、印刷纺织等高速运动场景中无需停顿即可完成多角度拍摄。两者的结合极大优化了物理工位与硬件空间,提升了整体检测效率。

两年匠心打磨:TGV工艺视觉方案,诠释极致方案整合力

针对半导体先进封装领域,Basler推出了历时两年打磨的TGV(玻璃通孔)工艺检测视觉方案。该方案融合了极简的触发方式、Basler VisualApplets和vTools、多光路以及分光路的创新设计、镜头和同轴光源的紧密配合,集成程度非常高,体现了Basler的方案整合能力。同时,通过imaFlex采集卡完成了多光源的精准触发,并在采集卡内直接完成图像融合与面孔、腰孔边缘提取的预处理工作,展现了卓越的方案定制能力与极高的系统集成度。

定制化光学与边缘计算:赋能高精度检测

针对特定的光学难题与算力分配挑战,Basler展示了自动对焦与景深融合定制方案以及机内畸变校正方案。自动对焦与景深融合方案采用了液态远心镜头,实现了毫秒级响应的自动对焦。该方案将对焦控制算法内嵌至相机固件,并利用采集卡的FPGA实时运行超景深算法,不仅实现了零CPU占用,还能精准检测表面高度差在5-100 μm的微米级结构。

机内畸变校正方案则通过固件直接在相机内完成校正,无需额外硬件即可提供无畸变图像。该处理过程零CPU负载且对帧率影响极小,并兼容USB 3.0和GigE Vision系统。这些方案无缝衔接通用pylon SDK,极大降低了上位机的算力负担与后期的开发门槛。

探索非可见光视界:特殊光谱领域的更多可能

在非可见光成像领域,Basler展示了SWIR(短波红外)视觉方案与NIR(近红外)增强芯片方案。SWIR成像单元搭配高倍率显微系统,能够准确识别晶圆内部微小特征。该相机的独有专利功能Pixel Correction Beyond可显著抑制噪声,提升图像质量。在实际应用中,SWIR方案非常适合先进封装中的晶圆级键合对位、套刻误差识别,以及隐切前期的定位与划痕检测。

此外,全新NIR增强芯片方案在1050纳米以下波段表现出的优异性能,在水果分选、光伏EL/PL发光检测以及锂电池隔膜穿透检测等市场展现出显著优势。

这两套方案为突破传统可见光局限的复杂检测场景提供了专业解法。

系统级控制与硬件防护:极简部署,从容应对严苛环境

在此次展会中,Basler的同步控制系统方案也备受瞩目。该方案通过原生一体化架构实现多相机的极简直控与严苛的时序微秒级同步。这种极简且稳定的架构减少了冗余硬件设备,节省了额外的光源控制器,从而显著降低了整体搭建与后期运维成本。同时,通用pylon SDK提供了丰富的API接口,无缝衔接现有开发习惯。

现场同台展示的还有Basler IP67全防护方案,该方案不仅能应对严苛的粉尘、水渍环境,还广泛兼容macOS、Android、Linux和Windows系统,为复杂工业环境提供高度可靠的运行保障。

总结与展望

本次2026上海机器视觉展,Basler通过这10套极具针对性的视觉方案,再次向市场证明了其在机器视觉领域的深厚技术积淀。无论是拓宽行业边界的光学成像技术,还是致力于精细化升级的方案重构,Basler始终致力于为客户提供更具商业价值与技术前瞻性的高品质视觉选择。未来,Basler将继续携手行业伙伴,共同推动各行业视觉应用的高质量发展。

(Basler机器视觉)

标签:Basler  我要反馈
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