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传感器

可制造性设计风行,Synopsys与Photronics展开合作

  2004年09月21日  

EDA软件供应商Synopsys公司及光掩膜公司Photronics最近新建了一个合作项目,旨在提高先进光掩膜的可制造性和质量,并降低设计到光掩膜的循环周期,Synopsys表示。

Synopsys 和Photronics同意将共同探索并开发可制造性设计及掩膜综合领域的解决方案,目的是为半导体制造商提供更快的时间。双方的行动包括:改进更换孔径的相移掩膜生产;采用高分辨率的增强技术RET改良掩膜循环时间和产出率;缩短掩膜检测时间。两家公司称,“建立长久的合作关系,我们双方能确保最先进的光掩膜得到优化,并提供可能是最高的产出率。”

在Synopsys公司签发的一项声明中,Photronics公司首席技术官Christopher Progler表示:“加快工艺复杂性使设计工具与光掩膜加工必须联系起来。”


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