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经过数年的研发,日本公司Advanced Mask Inspection Technology Inc.在年度Bacus论坛上声称在光掩膜检测工具研发上取得重大突破。Advanced Mask Inspection Technology在论文中宣称终于开发出值得用于制造的基于199纳米激光技术的光掩膜检测系统。
这种从裸片到数据库的设备据该公司称比市场上的257纳米系统领先一筹。它没有指出其竞争对手,但许多观察家表示,该公司矛头实指KLA-Tencor Corp.,它是全球领先的光掩膜检测系统供应商。
论文中称,“该系统具有发射和反射检测并行模式,生产能力为每片掩膜2小时。”“我们开发出利用两层数据和扫描图像以及199纳米光生成参考图像的方法。”“相移掩膜利用两种类型具有不同相位如0和180度的EB数据。两种数据经过尺寸调整处理、边角取整处理及基于滤波器操作建立一个PSF模型三种工艺最终生成参考图像。”
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