新思推出“并行”IC设计套件

新思公司最近推出据称是“下一代”的IC物理设计产品IC Compiler,该产品能够并行执行物理综合、时钟树综合、布局、布线、良品率优化和签字确认(signoff)校正等功能。IC Compiler整合了新思Physical Compiler综合产品以及Astro布局和布线产品中的主要功能。

“新一代产品将具有并行处理能力,不仅在校正方面,而且能够并行地处理设计中需要处理的许多问题。”新思首席执行官Aart de Geus说。这一点在90nm以下设计中非常重要,因为时序、功耗、面积、信号完整性和良品率全都需要一起加以优化。

“目前的解决方案具有局限性,因为它们是按顺序解决问题的。”新思实现部高级副总裁Antun Domic说,“它们先做布局,然后是时钟树、布线,最后再做校正。”考虑到前沿芯片设计中的设计规模、布线层、阻抗变化、时钟树资源消耗和过孔阻抗等情况,这样做的效果很差。

IC Compiler有三种新的技术突破,分别是扩展的物理综合、以签字确认为导向的设计收敛和良品率优化。尽管过去的物理综合已经包含了布局,但扩展物理综合已经把综合延伸到了布线。“我们可以在获得全部的后布线数据时做校正,这能提高结果质量,并减少设计反复的次数。”Domic表示。

以签字确认为导向的收敛意味着IC

图1:IC Compiler包含三项新的技术突破。 Compiler能够和两个广泛使用的签字确认工具PrimeTime和Star-RCXT共享公共数据库、约束、时延计算、提取和回归测试。除此之外,IC Compiler还能直接链接这些产品,并提供签字确认数据以便在最后阶段驱动进一步的优化。

IC Compiler中的良品率增强技术包括面向良品率的物理综合、多角度优化、注重功耗的布局、优先布线规则、过孔最小化和冗余性、面向时序的走线分布、面向时序的金属填充、面向关键面积的布线和注重蚀刻的布线。新思还宣称将把“设计意图”数据转发给分辨率增强技术工具。

“作为新思公司新一代的物理设计解决方案,IC Compiler将成为Galaxy IC设计平台新的核心,加强从RTL到芯片工艺的紧密结合。”该公司产品经理Ashwini Mulgaonkar表示。

至此,Galaxy IC设计平台完成了从RTL到GDSII流程的全面整合解决方案,它由IC Compiler、Design Compiler与验证产品组成。其中,Design Compile用于IC设计的前端,IC Compiler则提供物理层设计的所有功能。

显然,IC Compiler的直接竞争对手将是Magma设计自动化公司的Blast Fusion和Cadence设计系统公司的SoC Encounter平台,其中Blast Fusion同样集成了物理综合、布局和布线功能,SoC Encounter则整合了IC物理设计与综合。

Cadence的中国区市场经理 John Peng认为:“通过集成传统EDA工具来掩盖旧技术的不足并不能真正解决用户在纳米设计所遇到的困扰。基于传统综合以及布局布线技术的设计流程已经不能满足纳米设计的要求,造成迭代次数增多,不仅大大延长了设计周期,而且成倍增加了设计成本和流片成本,有时甚至根本无法达到设计收敛。EDA行业必须在这些核心技术方面进行革新,才能真正解决纳米设计的难点。”

对此,新思公司中国及香港地区业务拓展经理冯成认为:“由于IC设计中往往采用逐步逼近的设计方法,不一定有唯一的最好的解决方案,但可以有更好的设计方法。”同时他强调:“纳米时代带来IC设计中新的问题,但完全不需要设计人员介入的开发工具还只是梦想。”

目前,TI、ST、杰尔系统、ARM等公司已经采用或者计划采用IC Compiler。ARM有限公司行销副总裁Neal Carney说,与Physical Compiler和Astro相比,IC Compiler能使运行时间缩短40%,并且芯片性能相当。而在另外一个实例中,运行时间相当,但芯片性能提高了8%,他补充道。

杰尔系统公司设计方法总监Don Friedberg说,他的公司在使用IC Compiler后设计性能提升了12%到16%,面积缩小了10%,运行时间也有高达40%的改善。TI在采用了该产品后,减少了34%的产品上市时间,并准备在下一代65nm的DSP中采用该工具。

不过,新思公司的一位技术人员认为: “IC Compiler在中国的应用也许将较欧美等IC设计公司最少晚1年。”

IC Compiler最适合130nm以下的IC设计,它支持32位及64位的Linux与Solaris操作系统,产品从今年6月起推向市场,一年期许可费为73.5万美元。

另外,新思公司还将在较长一段时间内继续改善、销售和支持Physical Compiler和Astro产品,不过新思希望这些产品在2006年底前退出舞台。

作者:黄莺、葛立伟