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针对目前设计人员对现有EDA工具流程改革的排斥态度,DFM工具供应商Aprio Technologies Inc.提出了新的解决方案——应用扩展Halo-Quest,以适合EDA设计和分析工具,生成IC设计精确的硅图像描述。
Aprio策略的关键所在是所谓的DFM视角,它收集了以制造为中心的物理IC设计变量,包括原始版图、硅片印刷版图及能识别潜在光刻“热点”的系列错误矢量。通过DFM视角,Halo-Quest能为用户提供在现有设计工具下改进良品率和性能可预测能力所需的信息。
Aprio表示该公司已将Halo-Quest与几种EDA应用相端接。
尽管主导EDA供应商视Aprio为竞争威胁,拒绝与Aprio合作,但业内转向OpenAccess,这种情况的出现有望最终扭转局面,因为Aprio将能提供Halo-Quest与基于OA的工具之间的接口。
采用Halo-Quest的最初产品预计第四季度上市。价格信息没有披露。
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