研究人员演示纳米级自组装结构,使光刻精度达10纳米

2004年09月17日

美国康奈尔大学(Cornell University)研究人员最近开发出一种新的工艺技术,宣称将类似于光刻的自组装(self-assembly)技术引入一维和多维纳米级结构。该技术使光刻精度达到10纳米。

研究人员称,通过将块状共聚物与被称为dendrimer的“层叠分子”结合,自组装成一维、二维和三维纳米级结构。研究人员还声称,他们的发明有可能导致超高精度的纳米级特征尺寸,改进电池、太阳能电池和燃料电池的效率。这种聚合分子结构能产生一种新型合成高分子,名为“延展型两性分子dendron”,该材料具有研究人员长久梦寐以求的特性。

康奈尔大学的研究人员展示了一系列新型10纳米精度、采用两性分子dendron自组装的纳米级结构,包括3D管、双夹层(double sandwiches)和圆柱体等。研究人员还展示了圆柱体如何相变成2D结构,然后再变为3D结构。此外,当掺杂锂盐时,离子传输机制得到增强,沿纳米级的自组装管道推进电荷载体。

研究人员下一步将研究采用感应自组装技术来创建“分子前开关”,能随着温度的微小变换大幅改变传导率,因此能研制出超灵敏的温度传感器。

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