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传感器

SIA公布半导体技术蓝图,光刻和DFM等内容重点更新

  2004年12月10日  

美国半导体行业协会(SIA)日前透露,国际半导体技术蓝图(ITRS)2004年更新版最近在日本举行的ITRS冬季会议上获得通过,并于今天(12月10日)公布。

SIA表示,总体上的改进是预测了DRAM半间距(half-pitch)每三年有30%的递减,与摩尔定律所预测的每片IC上晶体管数量每两年翻番的预测相一致。ITRS是全球半导体工业需求15年展望的一致性参考文档。该文件概括了行业的技术挑战,提出了可能的解决方案。接下来是由半导体器件制造商和设备材料供应商来决定选择和执行细节。

2004 ITRS是自1998年以来欧、日、韩、中国台湾及美国研究人员合作结晶的第七版。下一个全新版本将定于2005年推出。在2004新版本中,更新主要集中在光刻、关键尺寸控制、线边缘粗糙度、新兴研究器件和可制造性设计。

ITRS的细节今天公布于ITRS的官方网站。


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