|
|
测量系统供应商Nanometrics公司宣布,将与Tokyo Electron公司(TEL)协作,交付一种用于光临界尺寸工艺控制散射测量术(scatterometry)的软硬件产品。
Nanometrics表示该公司将提供覆盖半导体制造工艺所有领域的解决方案。“Nanometrics经过实践证明的硬件技术,加上TEL/Timbre ODP软件,提供了最佳的工艺控制测量解决方案。” Nanometrics公司总裁兼首席执行官John Heaton在一项声明中表示。“集成方案在半导体器件与结构的测量、特征化、线宽控制、侧壁角度、高度和关键特性外形等方面表现出色。”
该公司补充说,光学数字成像(ODP)将衍射的宽带光转换成精确外形的半导体器件结构及薄膜。光学发散测量快速,没有干扰和破坏性,能被容易地集成到工艺工具中。
ABB以电气问题解决专家之志，回答未来之问。讲述与中国用户携手开拓创新、引领行业发展、推动绿色转型的合作故事，共同谱写安全、智慧和可持续的电气化未来。
12月18日，《AVEVA InTouch Unlimited重塑HMI/SCADA的无限可能》在线研讨会即将开播。
为助力广大电子半导体企业洞悉行业数智化发展趋势，并提供切实可行、可靠的解决方案，推动整个行业繁荣发展，剑维软件的专家团队
微信扫一扫，关注IIANews公众号
微信扫一扫，进入IIANews微网
京公网安备 11011202001138号
