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ASML公司EUV(Extreme ultraviolet)系统产品开发经理Hans Meiling透露,其公司采用EUV alpha演示工具印制出了亚40纳米光阻图像。
Meiling在提交给SPIE微光刻大会的一篇论文中汇报了EUV领域的进展,包括EUV掩膜、可工作晶圆和十字刻度线(reticle stages)在真空环境内的可用性和in-situ EUV系统的清洗。
Meiling和来自竞争对手尼康的Takaharu Miura都谈到了面向32纳米节点的EUV已准备就绪。Meiling透露,ASML已交付7套EUV光掩膜,另外13套即将交付。光掩膜空白符合32纳米节点对平整度的要求。ASML还演示了成功处理光滑EUV掩膜,没有出现额外缺陷。
Meiling表示,该公司计划今年上半年向Albany NanoTech及IMEC交付演示工具。
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会议介绍： 1. 机器人第七轴的介绍 2. 机器人第七轴的优势和应用介绍 3. 第七轴所用直线模组介绍
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