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工业连接

Toppan成为Elpida 100纳米以下唯一光刻掩模供应商

  2003年09月04日  

Elpida Memory日前宣布,其依赖单一的掩膜供应商Toppan Printing推出新的业务计划。

Elpida总裁Yukio Sakamoto说:“当处理缩小时,如果光刻掩模由多家供应商提供,就不可能使光刻掩模的质量保持在高水平。对半导体生产而言,掩膜和晶片是严肃的议题。如果供应商能够提供有力的价格和交货方式,只有一个供应商具有高效率。与Toppan的协议解决了我们的掩膜问题,下一步就是晶片供应。”他的言论表示Elpida将最终只需一个晶片供应商。

该协议包括共同开发和生产100纳米及更深处理的光刻掩模,共同开发准备光刻掩模的生产基础设施。

Toppan的总裁Naoki Adachi透露,该公司将把向Elpida供应掩膜放在最优先的位置。该公司在全球光刻掩模占有15%的份额。两个公司之间的合作已经开发出将在10月推出的1Gb DRAM。该公司已经将掩膜的交货时间从一个星期减少到3天。Toppan的掩膜队伍和Elpida的设计队伍正合作改进光临近校正模式(optical proximity correction pattern),使模式数据更适于生产和更快交货。

Elpida目前从5家供应商采购掩膜。随着处理缩小到小于100纳米,Toppan将成为向Elpida在日本的生产厂和进行器件生产的合同代工厂供应掩膜的的唯一供应商。在下一个财政年度,向Elpida销售的掩膜有望超过1千万美元,而销售给代工厂的销售额将高3倍。光刻掩模已经成为芯片产业日益重要且昂贵的技术。因此,合作并进行联合研发有望给两个公司带来益处。


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