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工业连接

遭遇工艺困扰,英特尔CTO呼吁业界提供优秀的设计工具

  2006年02月20日  

英特尔的芯片设计师曾在近期推出的CPU上提高了30%的性能,可是为了得到10皮秒的时序收敛,眼睁睁地看到这一优势被为适应工艺变化而进行的晶体管调整所吞掉。

英特尔(Intel)首席技术官Justin Rattner表示,“我们需要开发出将设计师从这些工艺担忧中解脱出来的工具。”他认为工业需要提供新一代的芯片设计工具,以化解功率和变化难题。

Rattner还在ISSCC上发表了两篇论文。一篇探讨了英特尔如何在一近期推出的CPU内提供两个独立的电源轨。一个高压电源轨为芯片的大部分服务,另一个低压轨供应缓存,使缓存尺寸减少35%。第二篇论文讨论了通过采用新的全CMOS快速稳压器支持芯片多电源轨的原型方法。该研究器件能在纳秒而不是分立稳压器要求的毫秒级切换电源。

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