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出席光罩技术研讨会(Bacus Symposium on Photomask Technology)的专家认为,虽然光罩成本不断飙升成为近日人们关注的问题,但更大的危机正在酝酿之中:光罩合格率不高。
芯片制造联盟Sematech的资深研究员Walter Trybula表示,130纳米“全规格”光罩,第三轮加工累积合格率只有27.04%。他在研讨会上发言时表示,该数据高于第一轮加工的8.19%,以及第二轮加工中的17.5。
光罩合格率将继续是一个令人烦恼的拥有成本问题,特别是产业正在向90纳米工艺和更精细的工艺前进。
IBM的光罩策略项目经理Kurt Kimmel也认为,光罩合格率仍将是阻碍130纳米和更高级工艺发展的障碍。但他表示,130纳米光罩的“实际合格率”要高得多,对于典型的二元光罩来说在90%左右。
他说,尽管如此,光罩设计中的致命缺陷是根本问题。“50%的不合格光罩是因为缺陷所致”。他表示。
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