可制造性设计(DFM)正面临着严峻的挑战和威胁,除非各公司对现有设计流程进行大量变革,这些问题就得不到解决。这是日前参加一项DFM研讨会的业内高层所得出的意见。但DFM初创公司Aprio Technologies总裁兼CEO Mike Gianfagna遗憾地表示:“可是人们不会接受这么做。”
相反,改变设计流程来迎战DFM挑战必须是自然“演进的(evolutionary)”,Synopsys公司DFM方案高级总监Srini Raghvendra称。Raghvendra倡议一种“全盘的”DFM方案,包含强有力的与设计实现的集成和与代工流程的相关性。他还认为,声称能改进良品率的单独点工具不是解决问题的有效方案。
Telos Venture Partners前总合伙人、数家公司董事会成员Jim Hogan展示的数据显示,在65纳米节点,设计成本将占产品潜在收入的一半以上。“掩膜费用无关紧要,抹杀利润的是设计,”Hogan表示。
目前,DFM新创公司大多数都专注于光刻。但Hogan表示,即将出现的下一代DFM工具将着重于其它领域,比如时序。
Gartner Dataquest首席EDA分析师、研讨会主持人Gary Smith表示,工业已经“相当明确地指出了我们需要做什么”来改进良品率,尽管各种各样的公司正以不同的重心来实现DFM策略。
最近业内最通用的基调是,设计和制造之间必须交换更多信息,以及要求不需每一方成为另一方领域的专家就能实现方案。
该研讨会是2006年D2M硅谷大会的一部分,主题为“谁是真正的DFM解决方案？”
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