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半导体制造设备供应商Mattson公司日前宣布,已将额外的3000 RTP系统安装在Elpida公司在日本广岛的300毫米晶圆厂中,在那里已经有几套Mattson RTP系统正在工作,新装系统将用于下一代110纳米及更低的RTP应用器件的生产和开发。
Elpida公司首席执行官Otsuka Shuichi表示,“Mattson公司的RTP技术可以使Elpida加快最新的DRAM芯片制造速度,最终减少客户产品的面世时间。”
“半导体制造商在采用100纳米工艺进行生产和开发亚90纳米工艺时,他们可以意识到我们双边加热RTP技术的优势,”Mattson公司thermal产品部门总经理Juergen Biangardi说,“我们客户再次下订单显示了对我们RTP工具的性能和效率充满信心。”
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