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英特尔公司将157纳米平板印刷剔除出公司发展计划,该公司已经加入IMEC的产业联盟研发项目,具体内容是关于193纳米和157纳米蚀刻设备。先进印刷技术是IMEC的45纳米以及低于45纳米的7个IIAP研发方向的一部分,IMEC日前宣布,英特尔、三星电子、英飞凌、飞利浦半导体和意法半导体已经加入了这7个研发项目。
这个为期5年的研究项目包括两个主要方向,超紫外线蚀刻技术(Extreme Ultra-Violet, EUV),这是英特尔公司所倡导的,以及193纳米和157纳米蚀刻技术。
IMEC与荷兰设备制造商ASML、飞利浦半导体和其他欧洲芯片制造商合作,已经在157纳米技术上取得领先优势,今年年初IMEC从ASML公司购买了业界首个153纳米蚀刻设备。
据悉,英特尔曾经表示跳过157纳米平板印刷技术,直接采用超紫外线刻蚀技术,该公司已经通知平板印刷设备提供商,英特尔将不再购买下一代平板印刷工具。
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