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作者:Mark LaPedus
美国检察官办公室日前宣布,NetLogic Microsystems Inc.的两名前雇员日前因被控窃取台积电的IC设计与开发数据而被逮捕。两人分别是42岁的Lan Lee和34岁的Yuefei Ge,前者是美国公民,而后者则是中国公民。他们被控共谋窃取商业机密和五项窃取商业机密罪行。他们上周首次出庭,并交纳了30万美元的保释金。下一次出庭时间定在明天。
他们共谋窃取商业机密,以及窃取商业机密的具体行为,最多可被判10年监禁和25万美元罚金,外加可能的赔偿。
据起诉书,Lee和Ge被控共谋从其前雇主——通讯芯片生产商NetLogics Microsystems(美国加州),以及晶圆代工厂商台积电窃取商业机密。但他们不是台积电的雇员。
Lee和Ge曾经是NetLogic的资深设计工程师。据NetLogic,他们三年前已从该公司辞职。
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