面对Cadence和Mentor Graphics近日相继发布各自主打的可制造性设计(DFM)工具,Synopsys的一位发言人表示,绝非是步这两位世界顶级EDA供应商的后尘,该公司现在也在自行开发两款新的DFM工具。
Synopsys计划在今年年底为其DFM产品系列增加两款新品:双领域仿真产品和新一代良率分析工具。该公司宣称自己的DFM产品线目前在业内最为全面,特别是在去年12月收购了HPL科技公司之后。
其中,双领域仿真产品旨在解决亚65纳米光刻工艺和设计版图的复杂性,它采用将Synopsys基于闪存的仿真引擎(工作于空间域或多边形域)和基于现场的仿真引擎(工作于频域)相结合的方法。该工具目前处于测试阶段,预计于今年第4季度面世,Synopsys公司主管硅工程部DFM业务的副总裁Anantha Sethuraman介绍。
而良率分析引擎在设计阶段提供解决涉及DFM问题的相关工艺细节。据Synopsys的说法,该引擎负责处理一些至关重要的工艺信息,用来从光刻、化学机械平面化(CMP)及关键区域分析中预测缺陷。提取出来的信息会向上游传递,为设计人员提供快速的工艺敏感度反馈、带来更丰富的制造信息,并最终减少从设计到产品的时间。良率分析引擎尚在开发中,计划于今年秋天上市,Sethuraman透漏。
除了即将推出的仿真和良率分析工具外,Synopsys的DFM产品计划还包括光掩膜综合、光掩膜数据准备、TCAD、光刻验证、光掩膜审核以及制造良率管理工具。
作者:Dylan McGrath
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