Si-Light Technologies公司日前表示,它将研究断层工程技术的应用,以使硅能发出波长为1.1-1.6微米的光。该公司已从英国政府的贸易与工业部获得了6万英镑的资助,用于SMART可行性研究。
硅不会自然发光,但科学家和工程师在过去10年里进行研究如何通过纳米级涂层、蚀刻和晶体断层来改变带隙,使硅发光。
如果用于制作电子集成电路的材料具有使电信号和光信号之间相互转换的能力,可能具有巨大的潜力。可能的应用包括on-chip光学互连、硅光电IC、MEMS和传感器系统。
2002年10月,意法半导体(STMicroelectronics)声称,它已通过把铒和铈等稀土金属的离子植入到一层富含硅的氧化物(silicon rich oxide, SRO)上,开发出了发射光的硅。
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