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中国建设的第一条可满足0.25微米线宽IC需求的8英寸(200mm)硅单晶抛光片生产线—硅单晶抛光片高技术产业化示范工程日前通过整体验收,年产能6000万平方英寸8英寸硅单晶抛光片。
承担此项目的北京有色金属研究总院(有研总院)院长屠海令介绍说,项目自2001年2月竣工通线以来,有研总院在加强质量管理稳定生产线工艺技术的同时,根据市场变化,调整产品结构,生产技术难度大、附加值较高的重掺硅单晶抛光片。示范工程生产的硅单晶抛光片已在国内大批量应用,并向国际一流集成电路制造公司批量供货。如今,示范工程生产线运行状况良好,销量稳步增长。
业内人士认为,8英寸硅单晶抛光片示范工程项目,可在一定程度上满足中国半导体器件市场的需求,促进中国深亚微米集成电路的技术进步,这是中国大直径硅单晶工程化技术开发和实现工业经济规模生产的有益尝试,将为中国微电子领域的持续技术创新和产业发展奠定良好的基础。
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