ADI新型双极工艺可提高传感器信号处理性能

美国模拟器件公司(ADI)日前推出了双极(bipolar)制造工艺,可为工业环境中低电平传感器信号的处理提供低噪声和高灵敏度,同时具有很高的击穿电压保护。

ADI工业产品总监Steve SOI??kolov表示, ADI在工业控制领域还有一大块市场。“目前人们对蜂窝电话IC的热情,使工业控制制造商们有时会感到被忽视,工业市场实际上就是新技术的催化剂,他们正在寻求具有更高电压保护功能的小型设备。”他说

ADI的标准双极工艺提供了传统双极信号放大所具有的低噪声和高速特性,同时耐压可达36V,因而采用这种新工艺的器件在生产环境中可直接与传感器和激励接口,对传感器输出的低电平信号进行精确的放大,减少干扰信号的产生。

ADI精密放大器产品总监Steve Parks说到,许多服务于工业市场的传统工艺中,如功率晶体管的制造工艺具有很大的裸片尺寸,不易实现小型封装,为降低寄生效应并保持放大器性能指标,需要采用SOI技术进行电介质隔离。新型双极工艺采用深沟道(deep-trench)隔离技术,将晶体管单元的尺寸降至传统双极工艺的三分之一,其“垂直结绝缘”统一采用0.5μm结构。

象电介质隔离法,采用该双极工艺的npn晶体管特征频率可达到1GHz,pnp晶体管特征频率可达到750 MHz。该工艺使晶圆的成本有所增加,但由于减小了封装尺寸,价格相对于先前双极放大器确很具有竞争优势。

AD8675将采用这种新型的工艺,具有30V(+15V至-15V)轨至轨输出,噪声系数低于3nV/√Hz,可采用MSOP封装形式,工作温度满足军品级范围(-40℃至+125℃)。ADA4004为采用该工艺的低噪声四运放,在一个裸片上组合了四个运算放大器,每个放大器的噪声都低于2nV/√Hz。

作者:Stephan Ohr,EE Times Network技术编辑兼网站主编