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日本极超紫外线光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)研究将瞄准碳氧化物激光,以降低EUV系统的成本。
日本极超紫外线光刻系统开发协会表示,二氧化碳(CO2)激光有可能降低激光成本达20%。CO2技术据称是众多备选方案之一,包括激光或放电产生的等离子。日本行业希望借推出低成本批量EUV制造系统,以改进其落后荷兰光刻领导厂商ASML的局面。
该协会正在研究两种类型的光源:成本较高的激光产生的等离子,及存在碎片问题的放电产生的等离子。在中等聚焦下,前者消耗3.1瓦的功率。如今该组织正在通过添加一个调压放大器,将源YAG激光功率从现在的1.3千瓦增加到1.5kW。研究人员期望增强的YAG激光能在案一个月左右达到4W的目标。
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