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Nanometrics公司日前公布一种集成测量工具,该工具整合了紫外线分光镜椭圆偏光计及深紫外线分光镜(DUV)反射计。Nanometrics称,NanoOCD/DUV 9010提供单个工具衬盘上薄膜及薄膜堆栈厚度测量,以及阵列上的氧化物、氮化物及沟道外形测量。这种组合测量能力可被用于光刻、化学汽相沉积、铜化学机械抛光(CMP)、介电质CMP、硅聚合物蚀刻及介电质蚀刻应用领域。
在介电质CMP工艺中,例如,DUV技术提供衬盘上薄膜及薄膜堆栈的厚度,而紫外线椭圆偏光计提供全频谱阵列测量:氧化物沟道厚度、沟道外形、氮化物厚度等。NanoOCD/DUV 9010在320nm~780nm波长范围内针对非接触紫外线分光镜椭圆偏光测量能进行偏振、常规入射分光镜椭圆偏光测量。DUV分光镜反射计提供190nm~780nm波长范围内单/多层薄膜厚度测量及薄膜光特性及反射系数。
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