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光刻领域目前大热的是沉浸(immersion)技术。但美国亚利桑那大学(University of Arizona)的研究人员发明了所谓的“固体沉浸”(solid immersion)技术,为这一技术又添一把火。在光掩膜技术的Bacus研讨会上发表的论文中,预计该大学将描绘通过采用“固体沉浸透镜纳米探针”使无掩膜光刻成为现实的方法。
据称,有了此项技术,该大学能用无掩膜光刻工具实现20纳米设计和高数字孔径。固体沉浸不使用水作为提高光刻工具分辨率的方法。相反,该技术与新颖奇特的方法联系更为紧密,如原子力显微镜(AFM)和dip-pen光刻方法。
“在论文中,我们探讨了采用固体沉浸透镜纳米探针阵列的新型无掩膜光刻概念,”该大学研究人员称。“纳米管是高效近场变换器。每一个变换器都是SIL的组合,SIL是一种介电质,采用了天线结构。”
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