|
|
应用材料公司(Applied materials)最近宣布,向中国科学院微电子研究所(IMECAS)捐赠一套半导体光掩膜制版系统,以供学生和科研人员进行半导体生产技术的研究和教学。
应用材料MEBES 4700S光掩膜制版系统于2000年面世,采用电子束技术,将每层半导体芯片图形刻蚀在石英衬底上,形成光掩膜之后通过光刻系统将这些掩膜转化到晶圆上。
据介绍,中国科学院微电子研究所于1986年成立,旨在研究微电子技术,并培养高水平科技人才。IMECAS为中国科学院旗下的综合性微电子研究机构,设有硕士和博士课程,为毕业生提供从事微电子产业研究和工作的机会。
ABB以电气问题解决专家之志，回答未来之问。讲述与中国用户携手开拓创新、引领行业发展、推动绿色转型的合作故事，共同谱写安全、智慧和可持续的电气化未来。
12月18日，《AVEVA InTouch Unlimited重塑HMI/SCADA的无限可能》在线研讨会即将开播。
为助力广大电子半导体企业洞悉行业数智化发展趋势，并提供切实可行、可靠的解决方案，推动整个行业繁荣发展，剑维软件的专家团队
微信扫一扫，关注IIANews公众号
微信扫一扫，进入IIANews微网
京公网安备 11011202001138号
