上海华虹NEC电子有限公司(HHNEC)日前宣布,该公司采用了Synopsys的Proteus光学近似修正(OPC)软件,以提高制造精度,缩短完成掩膜综合的时间,并通过利用Proteus独特的可扩展架构达到更高的成品率。
华虹NEC首席营销和技术官赖磊平表示:“采用Proteus OPC软件可以提升我们在精细尺寸方面的准确度以及在较短的时间内制造高良品率芯片的能力,从而应对客户的严格要求。Synopsys提供的具备可靠和快速的全面掩膜综合解决方案可以满足我们在制造方面的需求。”
随着芯片制程中的特征尺寸缩小,光学近似修正的处理时间随之增长。Proteus软件所独具的分布式处理架构提供了近似线性的可扩展性能,使得客户可以通过使用成本低廉的基于Linux系统的多CPU缩短处理时间。Proteus的可扩展性对于未来更小尺寸的半导体设计而言极具吸引力。
Synopsys可制造性设计(DFM)营销副总裁Edmund Cheng表示:“华虹NEC采用Proteus软件,是领先的半导体公司采用可扩展架构和高精度的Proteus处理亚波长产品的又一例证。Synopsys将继续在掩膜综合、掩膜数据处理、技术计算机辅助设计(TCAD)和光刻验证(SiVL)领域提供最为全面的可制造性设计(DFM)方案,以解决不断出现的制造和生产方面的问题。”
华虹NEC由NEC公司、Jazz Semiconductor和上海华虹集团合资成立,是中国领先的8英寸半导体代工厂商之一。该公司面向国内外客户提供晶圆代工业务,据称在2004年年底采用0.18微米工艺技术后,其月产能将达到4.2万片。
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