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Micronic精心演绎图形描绘新技术,拓展在华光掩膜业务

  2006年09月08日  

Micronic Laser Systems AB日前针对中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会,为与会者提供最新图形描绘技术,并详细介绍Micronic完善的客户支持。此举是Micronic持续拓展其领先光掩膜制造中心策略的一部分。

此次研讨会特别将平面显示器与半导体应用分成两个场次并行进行,会上,Micronic高层主管、产品经理、专业工程师以及产业界专家与客户及潜在客户分享了最新相关信息。

基于Micronic在亚洲的扩张战略,Micronic于2005年在日本东京成立了亚洲技术应用中心(Asian Technical and Applications Center, ATAC)。ATAC为此区域的显示器及半导体客户提供应用及技术支持。今年初,Micronic公司在韩国设立了分公司,在台湾Micronic与Hermes-Epitek共事合作。今年九月,Micronic 已计划在这些区域举办巡回技术研讨会。

此外,2005年,Micronic推出了二款针对亚洲客户的新产品——Sigma7500系统及Micronic FPS5100系统。

Sigma7500系统为先进半导体光掩膜的生产力及效能树立了新的标准。Sigma7500在生产力、弹性及效能的提升,使其应用范围可扩大到包括在90、65和45纳米工艺技术的二元光掩膜及相位移光掩膜(PSM)等。由于今年初接获一家亚洲芯片大厂的订单,Micronic已建置4套Sigma系统。

Micronic FPS5100系统则是一款专为先进电子封装、被动矩阵TN/STN LCD和其它大面积应用所设计的全新光掩膜量产工具,可与LRS15000先进光掩膜系列相辅相成,进而大幅强化Micronic为成熟显示器和先进封装应用提供的卓越产品线。这款新的工具可为光掩膜制造厂提供较低的持有成本、更短的作业完成时间和更简单的生产规划。

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