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富士通将用65纳米技术生产逻辑半导体产品

  2006年01月26日  

富士通(Fujitsu)日前宣布,将建立一个新的晶圆厂,并采用65纳米工艺技术和300毫米的晶圆大批量生产逻辑半导体。该厂将建在位于日本中部三重县的富士通三重半导体工厂内,这将是该工厂第二个300毫米晶圆厂。富士通认为,通过建立新的晶圆厂,不仅能够满足日益增长的对采用先进工艺生产的半导体的需求,更能基于其先进的技术继续提供最优化解决方案和高性能产品。

据介绍,拥有双层洁净室结构的300毫米晶圆二厂计划在2006财年内建成(2006年4月至2007年3月),并于2007年4月投入运营,预计于2007年7月起开始批量出货。在至2007财年末的两年时间内,富士通将为新晶圆厂投入约1,200亿日元,使月生产能力达到10,000片晶圆。公司还将在市场需求趋势预测的基础上分阶段追加投资,并希望该厂的最大月生产能力能达到25,000片晶圆。

300毫米晶圆一厂是在富士通三重工厂建成的第一个300毫米晶圆厂,拥有采用90纳米技术大批量生产300毫米晶圆的生产线,于2005年4月起开始运营,其月生产能力将在2006财年达到15,000片晶圆。

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