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工业连接

三EDA厂商联手开发90纳米工艺统一验证流程

  2003年11月11日  

三家EDA验证工具提供商公布了一项雄心勃勃的计划,开发统一的验证流程和方法,以简化90纳米及65纳米工艺系统级芯片设计的验证。Verisity Ltd.、0-In Design Automation Inc.和Novas Software Inc.将携手在相应的工具集内创建公共数据模型。

功能验证被认为是IC开发过程中最为耗时的一项任务,占据了总开发时间的70%。当采用更先进的工艺实现设计时,这个比例不可能减低。

因此这三家合作伙伴将结合三方的特长创建公共数据模型:Verisity的测试平台技术、0-In的形式及声明校验工具,以及Novas的硬件调试技术。三方期望公共模型能在第三方仿真器、加速器和模拟器的“验证架构”上创造一个统一的VPA(验证过程自动化)流程。它们最初将着重于硬件验证,但计划可能通过联盟扩张的方式面向软件验证。

Novas公司市场副总裁Dave Kelf表示,“合作的目的是让验证过程中所有工程任务实现自动化。”三家公司希望其合作能把执行功能验证所需的时间缩小10倍。

三家公司的公共数据模型将使它们的工具套件能紧密协作,还能被作为统一环境让用户查看,0-In Design公司创办人之一兼高级架构师Richard Ho表示。


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