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在日前举行的先进光刻线研讨会(Advanced Reticle Symposium)上,Synopsys公司高管Michel Cote面向大部分听众是光掩膜制造经理的与会代表发表了演讲。他赞扬了EDA行业借助创新来应对可制造性(DFM)设计挑战的方式,他同时也指出,持续的行业合作对克服这些挑战至关重要。
Cote表示,他清点的设计自动化研讨会(DAC)参展的EDA初创企业数量是60家,其中许多公司正是就所提出的DFM解决方案而成立的。
他指出,应对DFM挑战的关键,是构建并利用能促使更多的信息——特别是与设计意图相关的——从设计端传递到制造端的新的方法学。有了关于优先及关键区域的更多信息,制造商能更好地就何时何地实现大胆的光刻增强技术(如光学逼近校正(OPC))作出恰当决策。
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