Mentor加入特许NanoAccess联盟,为90nm技术提供支持

Mentor Graphics和Chartered半导体制造公司,日前宣布Mentor公司加入Chartered NanoAccess联盟。Mentor Graphics和Chartered共同为Chartered公司的90纳米片上系统(SoC)生产技术提供全面设计支持。

据悉,双方将共同为Calibre DRC、Calibre LVS、Calibre xRC开发90nm技术文档和模型,用以开发Calibre硅设计平台的大多数高级物理验证、寄生电路提取和光刻解析增强能力,该平台是Chartered设计规则验证(DRC)的“金色”内部标准。

Mentor公司硅设计分公司的副总裁兼总经理Joe Sawicki 说:“我们正在将Calibre硅设计平台拓展到能满足由于新的设计流程和90nm技术生产要求刺激所引起的发展趋势。例如,最新增加到Calibre硅设计平台的Calibre xRC,能满足高速、大容量、晶体管级寄生电路提取的要求,能进行更精确的后仿真分析,保证芯片制造的成功。我们与Chartered的合作使得各公司能将这些产品的高性能应用到他们用Chartered的90nm技术加工的领先的设计中。”

Mentor Graphics由此成为了Chartered的NanoAccess联盟的一个创始成员,并且加入到由领先工业程序库、电子设计自动化、知识产权以及外购设计和生产服务公司组成的一个广泛的系统中。

背景资料:Calibre硅设计平台简介

在毫微米级的设计中,IC设计和制造的传递过程会发生变化。在以前的技术中,传递行为只是在tape out时进行简单的DRC/LVS检查。现在传递行为则是一种多步骤过程,该过程中格式数据库是经过改进的,因此设计成果能被制造出来。这就提出了许多挑战。在关于处理效果、光刻、数据量和可接受的成品率等问题上引起了不少争论。

为了满足这些挑战,设计团队依靠整合的Calibre硅设计平台,包括物理验证、全芯片、晶体管级寄生电路提取、为制造着想的设计(DFM)、模糊数据预加工(MDP)、光学微距校正(OPC)和光刻解析增强技术(RET)。