由Semiconductor Research公司(SRC)及美国国防先进研究项目局组织的Low Volume Patterning Workshop预计将讨论基于微反射镜阵列的非掩膜光刻方法所存在的技术挑战,以及一个将政府及独立研究成果相结合的演示项目的可行性。
工作组旨在基于一个可编程或可重配置的掩膜,从5000万~1亿个微反射镜阵列生成一个扫描器,每一个反射镜测量不到10个微米。这些反射镜能把10 kHz速度的光脉冲反射到一片涂有普通光阻剂的晶圆上。
在没有掩膜的情况下,每小时合理的产量目标可能为5片300mm晶圆,足够用于小批量产品及早期原型。
这种方法直接挑战另一种基于多个电子束的小批量图形无掩膜光刻方法。采用电子束方法的公司有日本的佳能和日立；荷兰的初创公司Mapper；东芝与Ebara、Tokyo Electron 及Dai Nippon Screen成立的合资企业；以及Leica。
为了研究基于反射镜的方法,瑞典的Micronic Laser Systems AB及荷兰的ASML于七月成立了一家合资企业,将合作研究反射镜阵列技术。
美国政府对小批量图形生成显示出“非常强烈”的兴趣,部分原因是因为军事领域对非常先进的芯片有小批量的需求。Sandia国家实验室已对此课题进行了广泛的研究,SRC材料与工艺科学总监Daniel Herr表示,到2007或2008年,演示工具可以研制出来,以证明微反射镜方法的可行性。
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