Novellus和复旦大学成立IC铜互连工艺技术研究中心

诺发系统有限公司(Novellus Systems)日前与上海复旦大学签订协议,联合成立一个集成电路铜互连工艺技术研究中心。“复旦-Novellus互连研究中心”首先将入驻复旦本部,该中心配备有一整套诺发公司捐赠的集成电路铜互连工艺设备,据称这套设备将成为国内铜互连工艺的研究中心,为复旦大学、其它高校和研究所的研究人员以及本地区的工业界提供服务。

据悉,诺发将捐赠给复旦一整套铜互连设备包括:等离子体化学气相淀积系统(简称 PECVD)、物理气相淀积系统(简称PVD)、电化学镀铜系统(简称ECD)、化学机械抛光设备(简称CMP)。复旦大学将成立一个联合技术研究中心,安置该套设备,确保充足的人员配备及维护,为本科生和研究生提供试验环境。该中心首先将入驻复旦本部,等张江校区完工后,将迁移至位于中国集成电路生产区域中心的张江校区。

复旦大学校长王生洪教授表示:“随着集成电路向更快、更小和功能更强层次上的发展,接触和互连技术已成为集成电路制造最主要瓶颈之一。在半导体工艺,特别是互连技术设备制造方面,诺发公司是全球的先驱。诺发公司将捐赠给我校用于开展集成电路接触和互连工艺研究的关键设备4套,这将为我校微电子人才培养、学科发展以及促进与微电子产业界紧密合作创造极为良好的条件。复旦大学对诺发公司表示衷心的感谢!”

诺发研发副总裁姜谦博士由强调:“铜互连技术正在集成电路生产领域中创造新的成本和性能基准。在中国这个新兴的集成电路生产中心,我们的客户正在寻求生产性能好、成本低的工具设备。因而,尽早在复旦大学这样的高等学院将铜互连处理工具介绍给未来的工程师们是非常重要的。他们学到的技能将会令他们更受工业界的欢迎。复旦是中国一流的新一代科技人才的培养基地,同时也和周围的集成电路生产企业联系紧密,这是我们选择与复旦合作进行此次重大项目的决定性因素。”

据了解,复旦大学微电子研究院作为微电子研发中心及中国国家教育部和科技部批准的九个“国家集成电路人才培养基地”之一,已经发展成为中国一流的微电子人才培养机构之一。复旦大学拥有中国唯一的在集成电路设计方面的国家重点实验室,“ASIC和系统”,是重要的微电子研究基地。复旦大学对集成电路设计和高级工艺研究极为重视,还承担了许多国家重大项目。