|
|
联电与新思科技(Synopsys)宣布针对联电0.13微米工艺及新思的Galaxy平台开发出参考设计流程。目前新思的先进科技部门(Advanced Technology Group)已采用联电0.13微米工艺设计并试产了测试芯片,研究信号完整性、电感效应以及多重临界电压最佳化设计方法,可做为联电工艺验证中的一部份。
Galaxy是专用于设计先进半导体并兼具开放性及整合性的设计平台,它整合了新思的IC设计工具及Milkyway设计数据库,结合了从行为描述语言一直到硅芯片生产所需的时序、信号整合分析、共通数据库、延迟计算器、限制条件、可试验性以及实体验证等功能。
这项参考设计流程使用了新思的Design Compilera、DFT Compilera、VCS、Formality、Physical Compilera、Astroa、PrimeTimea、Star-RCXTa、以及HerculesaPVS等工具,新思科技表示,这项合作将为客户提供一个完整的RTL-to-GDSII设计流程,以协助客户面对深亚微米工艺所带来的挑战。
ABB以电气问题解决专家之志，回答未来之问。讲述与中国用户携手开拓创新、引领行业发展、推动绿色转型的合作故事，共同谱写安全、智慧和可持续的电气化未来。
12月18日，《AVEVA InTouch Unlimited重塑HMI/SCADA的无限可能》在线研讨会即将开播。
为助力广大电子半导体企业洞悉行业数智化发展趋势，并提供切实可行、可靠的解决方案，推动整个行业繁荣发展，剑维软件的专家团队
微信扫一扫，关注IIANews公众号
微信扫一扫，进入IIANews微网
京公网安备 11011202001138号
