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朗讯科技(Lucent Technologies)公司贝尔实验室最近被美国国防先进研究项目局(DARPA)选中,开发无掩膜光刻(maskless lithography)技术。
朗讯将设计、开发并演示使无掩膜光刻成为可能的基于微机电系统(MEMS)的空间光调制器(SLM)。朗讯目前正与Corning Tropel公司、杜邦掩膜公司及Lincoln实验室合作,同时还与ASML就此保持紧密的合作关系。这项为期四年的合同来自Space and Naval Warfare Systems Center San Diego,价值950万美元。
由贝尔实验室开发的MEMS SLM技术包含独立性高10倍的可移动微镜。这意味着下一代微电子加工中的光掩膜蚀刻系统特征尺寸能小至50nm。而美国新泽西纳米技术协会提供纳米技术研究和开发服务。该协会由朗讯科技贝尔实验室管理。
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