在最近举行的OpenAccess会议上,设计到掩膜联盟(Design-to-Mask Coalition, DTMC)公布了其目标,致力于将OpenAccess数据库引入制造领域。演讲者还呼吁OpenAccess向“框架”格式演变,为EDA开发商和用户增加新功能。
为期一天的会议由硅集成创新组织(Si2)主办,Si2负责管理用户支持的OpenAccess联盟。该联盟将采纳一种能提供多个供应商互操作性的API接口和参考数据库实现。
OpenAccess在所谓能连接设计和芯片制造的通用数据模型(UDM)中的潜在作用,曾经被谈论一时。支持者称,通用设计到制造数据模型能节省数十亿美元的掩膜制造费用,并将制造和工艺信息反馈给设计师。2003年9月,Si2提出成立设计到掩膜联盟,包含用户、EDA供应商和掩膜制造商。
如今这一提议已变为现实,Si2总裁兼CEO Steve Schulz表示。他说,DTMC将朝开放标准和技术的方向努力,成为一个社区资源。它将解决可制造性设计、数据准备、掩膜制造和晶圆加工等问题。
EDA企业家、曾经创办Cadence Design Systems的Jim Solomon谈到需要延伸OpenAccess的功能,以包含诸如图形用户接口、设计数据的标准阅读器和编辑器,以及扩展语言。
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