奥地利纳米压印光刻设备制造商EV Group日前正式成立被称为“全球性联盟”的纳米压印光刻联盟。
该公司显然已经为联盟聚集了更多的要素和成员。这家名为NILCom的联盟的成立是为了推动纳米压印光刻市场。纳米压印光刻技术采用了低成本、高分辨率和大面积图形生成工艺,是下一代光刻(NGL)技术。
NILCom的成员包括EV Group、来自Mikroelektronik Stuttgart的IMS-Chips/Institut、Quantiscript、Transfer Devices、Micro Resist Technology GmbH、Toyo Gosei、AMO GmbH、加拿大工业材料学院(Industrial Materials Institute)国家研究委员会(NRC-IMI)、Waseda大学、Applied MicroStructures和Leica Microsystems AG。
未加入此联盟的公司是EV Group在纳米压印光刻市场的竞争对手,包括Molecular Imprints、Nanonex、Obducat和SUSS MicroTec。这些公司在同领域也成立了一家联盟。Molecular Imprints在2003年5月签署了一项关于开发纳米压印光刻技术的价值3,600万美元的合资协议,目前这项协议已获得美国国家标准技术学院(NIST)先进技术规划的资助。其他的合资伙伴有KLA-Tencor、Photronics、摩托罗拉实验室和位于奥斯丁的德克萨斯州大学。
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