Carl Zeiss SMT AG公司的Nano技术系统事业部和日本精工旗下的SII NanoTechnology公司合作开发出了一种显微镜工作站。这两家公司已经将此NVision 40工作站推向半导体材料市场。
NVision 40结合了这两家公司的Gemini电子束技术,聚焦离子束(FIB)技术和注气系统技术。它带有两个电子侦测器,可同时探测二次电子和背向散射电子。为了用于内部缺陷分析和纳米构型应用,该平台还带有SIINT的FIB列和一个单注射器多通道气体注入系统。FIB可以达到一个4nM的分辨率。
Carl Zeiss NTS公司的执行董事Dirk Stenkamp说:“NVision 40结合了我们最成熟的核心技术,展示了我们的技术领导地位和创新的强大动力,将使我们的客户能够快速并高效地满足甚至超越纳米技术领域里现在和将来的的要求。
Carl Zeiss 公司表示,NVision 40的展示品将在2006年9月问世,而系列产品系统的供应则要等到2007年1月才开始。
Carl Zeiss公司NTS事业部过去曾给Molecular Imprints公司在步进快闪式压印微影(S-FIL)设备上提供过支持。
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