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FSI公司在上海举办表面处理研讨会

  2004年03月30日  

半导体制造表面处理专家FSI International公司最近在上海举办了一场以“为IC制造提供高品质的保证”为主题的技术研讨会。此次研讨会涉及各种表面处理技术的应用,来自FSI、芯片制造商和化学清洗供应商的专家作了演讲。同时,来自宏力、中芯国际、新进半导体、先进半导体、上海贝岭、华虹NEC、杭州士兰、华润上华、华润华晶微电子等110多位代表出席了此次研讨会。

据介绍,FSI在这一产业拥有三十年的专业知识,在此基础上开发了高性能的表面处理系统,为客户提供他们所需要的各种设备和技术方案,以迎接微电子制造中提出来的挑战,例如300mm硅片及特征尺寸为65纳米以下的设计以及使用新材料时出现的难题。

据悉,FSI公司能够提供一系列的清洗设备,可以针对单块硅片和大批量生产平台,为客户提供包括浸泡式、旋转喷雾式、蒸气式和低温动力式在内的各种清洗方法,帮助客户实现工艺性能、灵活性与生产能力方面的目标。


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