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工业连接

IEEE批准ALF及综合标准,促进库和EDA工具互用

  2003年10月14日  

为库和EDA工具能实现更大的互用性铺平道路,IEEE批准Accellera的高级库格式(ALF)及Verilog和VHDL子集成为新的标准。同时,IEEE 1076-2002 VHDL在该语言上添加了新特性。

被批准为IEEE 1603-2003的ALF为设计库提供标准语言和语义表述。它支持RTL到GDSII的功能描述、电性能及布局视图,适于从单元到复杂分层模块的库。据称ALF能让芯片设计师对库的控制能力更强。

IEEE 1603的标准化是“对纳米设计的一个有力推动,” Accellera主席Dennis Brophy表示。“IEEE标准制定了使工具供应商和数据创建公司有能力达到的稳定目标。它发出了一个信号,即ALF将准备进入主流开发。”

Brophy声称,“RTL代码可在不同的设计工具之间进行交换,不再局限于综合。”

IEEE 1076-2002 VHDL增加了三方面的特性。首先,串联和真实类型的定义旨在改进工具的可携带性。其次,VHDL如今在注释中支持多字节字符,允许文件以亚洲语言编制。最后,缓冲模式端口也得到改进,采用“Out”或“Inout”模式端口,使用方便。

IEEE 1076(VHDL)和IEEE 1364 (Verilog)文件可由IEEE获取。ALF IEEE 1603的草案文件已发布于Accellera工作组官方网站上。


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