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工业连接

90纳米没有“拦路虎”,EDA工具为工艺进步扫路

  2003年11月20日  

在日前举行的国际计算机辅助设计会议(ICCAD)专题小组会议上,半导体、EDA行业和学术界会聚一堂。他们表示,在可预见的未来,并不存在真正的能阻碍半导体工业跟上摩尔定律步伐的“拦路虎”。

小组会议主持人、来自IBM公司T.J. Watson研究中心的研究员John Darringer列举了可制造性、可变性、成本、功耗、生产力、模拟设计及嵌入软件等方面一系列棘手的问题,并征询与会者的意见,看这些问题是不是阻碍半导体工业发展的“拦路虎”。

与会者就每一个技术问题进行了探讨,其中有些人士还称有些问题是潜在的“拦路虎”。但是对于所有这些问题,半导体行业与EDA供应商表示都能一一克服,跟上摩尔定律的要求。

明导公司设计到硅片部副总裁Fujimura和总经理Joe Sawicki表示,EDA行业将继续创建工具,解决半导体行业工艺技术进步带来的新问题。


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