|
|
KLA-Tencor公司推出了一种基于Linux的新光刻优化工具LithoWare,能使半导体电路设计师减少开发IC的时间和成本。LithoWare基于该公司的软件仿真工具Prolith产品。
大多数EDA产品在Linux/Unix环境下运行。有了LithoWare,用户能载入GDSII文件,选择多仿真区域,通过改变运行中的照明,互动引导OPC decoration,然后将经过OPC装饰的掩模输出为一个GDSII文件。
“LithoWare为RET开发人员提供了两个最佳的方案,”KLA-Tencor工艺分析部总经理 Edward Charrier表示。“RET工程师能使用LithoWare灵活、可预测能力,在开发光刻条件如照明、最新的光阻及其它时同时优化OPC。采用 LithoWare,他们能更快速的创建RET方案,然后确保它在整个工艺窗口正常工作---从而实现了更可靠、制造性更高的设计。”
ABB以电气问题解决专家之志，回答未来之问。讲述与中国用户携手开拓创新、引领行业发展、推动绿色转型的合作故事，共同谱写安全、智慧和可持续的电气化未来。
魏德米勒麒麟系列隆重上市，以“飞、超、好”的开启新篇章。麒麟系列启势，中国智造全速出发。与此同时，麒麟MV强势出街，传递
2026中国国际工业博览会(简称“中国工博会”)定档于2026年10月12日-16日在国家会展中心(上海)举办。
微信扫一扫，关注IIANews公众号
微信扫一扫，进入IIANews微网
京公网安备 11011202001138号
