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电子系统级工具填补EDA的空白

  2004年07月30日  

虽然电子设计自动化(EDA)市场不像其它大多数领域那样感受到衰退带来的阵痛,但在过去几年里它也经受了用户开支显著放缓的考验。这次衰退严重阻碍了EDA市场的扩张,特别是2003年几乎水平的增长标志着它已经跌到历史最低点。现在,随着业界对新工具的投资快速增加,这种趋势正在发生逆转。

随着经济好转,EDA市场的复苏信号变得非常明显。包括新思、Cadence、明导资讯、Magma和Synplicity等公司在内的重要供应商有望从今年开始取得实质性的收入增长。兼并和收购活动也呈上升势头。许多大型EDA供应商正在从那些较小的新兴企业收购他们感兴趣或认为有前途的技术。电子系统级工具填补EDA的空白 - 1ALT="图:全球EDA市场预测">

几乎所有地区和分类市场的业务都可以看到发展。对用于90nm半导体设计的新工具和新技术的投资正在快速上升。此外,业界已经展开针对更小尺寸工艺的早期设计活动。不过,EDA市场仍面临一些会影响行业复苏的战略问题。

下一代系统级芯片(SoC)不断增长的规模正促使设计工具的开发步入一个关键的转折点。由于未来前沿SoC设计的门数极其巨大,因此我们需要新一代工具来创建这些复杂的器件。随着最新的90nm设计突破1亿门,旧的设计方法不再能够在合理的时间内实现设计收敛,从而无法满足典型的上市时间要求。

因此,电子系统级(ESL)工具开始填补这一空白。在20世纪90年代,EDA业界曾两次试图推出ESL类工具。尽管它们都以失败告终,但这次用户已经做好向该技术转移的准备。寄存器传输级(RTL)工具以前一直是IC设计的核心,但它正在被以ESL为中心的技术所取代。传统上使用RTL工具的设计师要么逐步向上游发展,将重点放在ESL工具套件上;要么向下游发展,将重心转向CAD实现。曾经在芯片设计市场占最大份额的RTL工具正被迫让出其中心地位。

2004和2005年EDA行业的前景很大程度上取决于半导体工业的复苏状况。大多数重量级EDA用户已经完成或正在进行RTL实现软件的重写工作。今后几年,EDA的增长取决于主流用户对类似工具的升级时间表,以及重量级用户对硅虚拟原型、智能测试平台和ESL工具的下一轮投资。

因为ESL工具仍处于争取市场接受度的早期阶段,所以短期内,如果主流用户对RTL实现工具的采用比预期慢,这将影响EDA市场的增长。2004年EDA行业的增长率预计为11.8%,2005年上升到17.9%。随着ESL工具从市场获得发展动力,EDA的增长率应该会相应走高,在2006年和2007年分别达到20%以上。到2008年,半导体工业的下一轮衰退预计将对EDA市场的增长产生负面影响,使其增长率降低到15%以下。

EDA市场正在进入一个变革的时代,用户已经熟悉的用于130nm以上工艺的设计方法和工具套件将成为历史。当业界从基于RTL的方法向以ESL为中心的设计方法转变时,这在短期内可能会给EDA供应商和用户带来不确定因素。受波及的各方需要一定时间来适应用于设计流程的新模型,而设计师和半导体制造商也需要时间来适应新的设计规则。一旦度过这段过渡期,EDA市场将迎来灿烂的光辉前景。

Laurie Balch是Gartner Dataquest公司负责跟踪设计与工程技术的首席分析师。

作者:Laurie Balch


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