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莱智科技推出升级版内存特性分析工具软件

  2005年06月10日  

莱智科技日前推出CharFlo-Memory!升级版内存特性分析工具软件,新增功能系针对提升硅制良率。

莱智科技表示,最新推出的CharFlo-Memory!乃是采用以下几种方式,确保提升硅晶圆上最大区块的内存IP工艺高良率:

  1. 针对个别PVT(工艺,电压,温度)状况下所提取的对象进行内存特性化分析,而非仅对模型以内插法与外插法粗略演算。

  2. 判读内存设计架构与原型之后,执行电路层级仿真结果的可靠度验证。

  3. 经由提供针对关键网络之寄生电路、电阻的提取,在更短的时间之内完成原本已达高效率的布局寄生电路、电阻提取工作。

莱智科技表示,此CharFlo-Memory内存特性分析软件已成功获得主要国际晶圆大厂、整合元件制造公司及IC设计公司,例如台积电、联电、Broadcom、Marvell与多家日本半导体制造商。其为高性能嵌入式内存成功产生的正确时程与功率模型,已获多项单系级芯片设计采用,其中也包括65与90纳米工艺。


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