PVD(物理汽相沉积)-MAXIT ®

http://www.iianews.com PVD 苏尔寿美科 SULZER 2007年08月31日

工艺描述：

　　PVD(物理汽相沉积)工艺原理是：将通常为金属基体的固体材料（称之为靶材）转换成电离状态后，电离蒸汽浓缩到基体上，形成薄膜涂层。离化可通过热工艺（电子束或弧光即阴极真空电弧蒸发）直接蒸发靶材表面材料或通过动能例如等离子体（通常采用惰性气体例如氩气）撞击靶材表面获得。PVD工艺在真空室内进行，便于蒸发涂层材料移动到基体上，控制沉积率，防止发生污染。

苏尔寿Metaplas MAXIT® PVD设备

　　与PVD溅射工艺相比，PVD电弧工艺的一个重要特点是在沉积过程中产生极大的等离子能量密度，蒸发靶材电离率达到100%。这样生产的涂层，与PVD溅射工艺相比，硬度大，密度大，与基体的粘结性好。PVD溅射工艺的电离率只能达到10-40%。

　　物理汽相沉积是一种非常经济且柔性的工艺，因此广泛应用于机械加工等工业生产中，通过改善功能表面特性来提供例如抗磨损等功能。

PVD MAXIT®工艺的特性：

· 可灵活地选择涂层材料；

· 可提供各种应用所需的例如耐磨损、抗腐蚀、特定摩擦等涂层或装饰性涂层。

· 可有效控制涂层厚度和表面特性；

· 沉积率高

· 涂层与基体的粘结性好

· 沉积温度低，最低温度低于低于180 C (350°F)

· 具有批量生产能力，经济实惠

· 装置采用柔性化设计，配置、容积、产量等可根据具体需求来设计

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