K-Alpha X射线光电子能谱仪(XPS)获殊荣

　　2007 7月20日，Thermo Scientific 最新推出的K-Alpha X射线光电子能谱仪(XPS)获得R&D杂志授予的2007年度R&D 100殊荣。K-Alpha的产品经理Richard White表示，“K-Alpha是高精度的表面化学表征分析仪器，格外适合对物质表面10nm的表征分析。该产品可以进行定量分析，因此可以完成物质表面的化合物分析。多达128 道的探测器快照式获得各个扫描点的元素 成分和化学态信息, 从而获得样品表面高灵敏度化学态图像，如浓度空间分布图、薄膜厚度图。它可以广泛运用于表面土层或超薄芯片，如涂料，半导体，石油化工以及众多生产工业中。R&D杂志将于2007年10月举办年度颁奖盛会。